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前驱舷列
前驱体是半导体集成电路制程薄膜沉积必不可少的要害质料, 常用于原子沉积( ALD ) 和化学气相沉积( MOCVD ) 工艺, 主要包括硅前驱体和金属前驱体,常用于High-K介电层、栅极侧壁等应用场景。具备优异电学性和工艺兼容性,包管器件的良率与高性能。
特征
-
高纯
-
高沉积速率
-
降低积温度
-
沉积匀称性优异
-
台阶笼罩率优异
用途
芯片
产品系列
官方微信公众号
官方视频号
诺莱特商城
三明海斯福
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前驱舷列
前驱体是半导体集成电路制程薄膜沉积必不可少的要害质料, 常用于原子沉积( ALD ) 和化学气相沉积( MOCVD ) 工艺, 主要包括硅前驱体和金属前驱体,常用于High-K介电层、栅极侧壁等应用场景。具备优异电学性和工艺兼容性,包管器件的良率与高性能。
高纯
高沉积速率
降低积温度
沉积匀称性优异
台阶笼罩率优异
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